1. Monomer deposition apparatus

모노머 증착장치

2. Method for gradational deposition using vacuum device

진공장비를 이용한 그라데이션 증착방법

3. Chemical vapor deposition reactor for preparation of polysilicon

폴리실리콘 제조용 화학기상증착 반응기

4. Atomic layer deposition device having scan-type reactor and method therefor

스캔형 반응기를 가지는 원자층 증착 장치 및 방법

5. Method for manufacturing x-ray/γ-ray focusing optical system using atomic layer deposition

원자층 증착을 이용한 엑스선/감마선 집속 광학계의 제조 방법

6. Proceedings began when the deposition of at least two witnesses to the same act agreed.

동일한 사건에 대해 적어도 두 증인의 진술이 일치하면 소송 절차가 시작되었습니다.

7. The present invention relates to a yeast hydrolysate, which inhibits the deposition of fat around internal organs so as to treat or prevent obesity, and which has antioxidant activity.

본 발명은 체내 지방 축적을 저해함으로써 비만을 치료 또는 예방하고 항산화 활성을 갖는 효모 가수분해물을 제공한다. 아울러 본 발명은 상기 효모 가수분해물의 제조방법 및 상기 효모 가수분해물을 포함하는 식품, 사료, 약학적 조성물 및 화장료 조성물을 제공한다.

8. The amount of luminescence released is used to calculate the equivalent dose (De) that the sediment has acquired since deposition, which can be used in combination with the dose rate (Dr) to calculate the age.

방출된 루미네선스의 양으로 퇴적물이 쌓인 후 얻어진 선량당량(equivalent dose; De) 을 계산할 수 있으며 이것을 선량률 (dose rate; Dr) 과 함께 사용하여 연대를 계산할 수 있다.

9. The present invention relates to a vacuum processing apparatus, more particularly to a vacuum processing apparatus which performs vacuum processes such as etching and deposition for a substrate of glass for an LCD panel, etc.

본 발명은 진공처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 LCD 패널용 유리 등의 기판에 대하여 식각, 증착 등의 진공처리를 수행하는 진공처리장치에 관한 것이다.

10. According to the method and device for manufacturing artificial stone of the present invention, the deposition rate of chips exposed at a surface of artificial stone is maximized, and thus the external appearance of artificial stone can be more naturally expressed and resistance against abrasions and staining can be improved.

본 발명은 인조석의 제조방법 및 제조장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로 (a) 인조석 원료에 상이한 입경을 갖는 2종 이상의 칩을 혼합하는 단계; (b) 칩이 혼합된 인조석 원료를 몰드에 투입하는 단계; (c) 진동장치를 사용하여 원료가 몰드 내에 균일하게 분산되도록 1차 진동을 가하는 단계; (d) 원료의 기포를 제거하기 위하여 진공을 가하는 단계; 및 (e) 진동장치를 사용하여 2차 진동을 가하여 인조석을 성형하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하고, 본 발명에 따른 인조석의 제조방법 및 제조장치는 인조석 표면에 노출되는 칩의 출석률을 극대화시켜, 보다 자연스러운 인조석의 외관 디자인 표현과 더불어 내마모성 및 내오염성을 향상시킬 수 있다.